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            Eksma 激光脈沖電動(dòng)可變衰減器

            簡(jiǎn)要描述:Eksma 激光脈沖電動(dòng)可變衰減器
            具有ø22 mm透明孔徑的電動(dòng)可變衰減器,由薄膜偏振片,半波片和光機(jī)械組成,易于設(shè)置。波片的電動(dòng)旋轉(zhuǎn)允許連續(xù)改變輸出光束的強(qiáng)度比。

            • 產(chǎn)品品牌:Eksma
            • 廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
            • 更新時(shí)間:2025-11-01
            • 訪  問  量:1943

            詳細(xì)介紹

            品牌Eksma價(jià)格區(qū)間面議
            組件類別光學(xué)元件應(yīng)用領(lǐng)域醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子/電池,綜合

            Eksma 飛秒和ND:YAG激光脈沖電動(dòng)可變衰減器990-0072M

            Eksma 激光脈沖電動(dòng)可變衰減器

            具有?22 mm透明孔徑的電動(dòng)可變衰減器,由薄膜偏振片,半波片和光機(jī)械組成,易于設(shè)置。波片的電動(dòng)旋轉(zhuǎn)允許連續(xù)改變輸出光束的強(qiáng)度比。

            產(chǎn)品介紹

            ?將激光束分為兩束手動(dòng)調(diào)節(jié)的強(qiáng)度比,以68°角分開

            ?大動(dòng)態(tài)范圍

            ?透射光束偏移?1mm

            ?高光學(xué)損傷閾值

            Eksma 激光脈沖電動(dòng)可變衰減器

            該可變衰減器/分束器由直徑為50.8mm的UV FS薄膜布魯斯特型偏振片組成,該偏振片反射s偏振光,同時(shí)透射p偏振光,并安裝在分束器安裝座840-0056-12和石英零階(光學(xué)接觸)中。半波片直徑25.4mm(用于飛秒應(yīng)用)或零級(jí)空氣間隔半波片(用于高功率應(yīng)用),其放置在旋轉(zhuǎn)的偏振片支架840-0190-01中,并放置在入射的線性偏振激光束中。

            可以通過旋轉(zhuǎn)波片來連續(xù)改變那兩個(gè)分離且不同的偏振光束的強(qiáng)度比,而無需改變其他光束參數(shù)??梢栽诤軐挼膭?dòng)態(tài)范圍內(nèi)控制出射光束的強(qiáng)度或其強(qiáng)度比。可以選擇P偏振以獲得較大的透射率,或者當(dāng)透射光束發(fā)生較大衰減時(shí)可以反射高純度s偏振。

            840-0056-12運(yùn)動(dòng)學(xué)安裝座允許將薄膜Brewster型偏振片的入射角(AOI)調(diào)整為±4.5°,并獲得較大的消光對(duì)比度。支架位于桿,桿支架和可移動(dòng)基座820-0090上。

            距桌面的光軸高度可以在78-88 mm的范圍內(nèi)調(diào)節(jié)??梢蕴峁┢渌叨茸鳛槎ㄖ?,以將標(biāo)準(zhǔn)桿和桿架更改為更高的高度。


            EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué),工業(yè),醫(yī)學(xué),美學(xué),軍事和航空航天市場(chǎng)的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
            EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,光機(jī)械,帶驅(qū)動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商,它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
            EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項(xiàng)業(yè)務(wù),其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長期專業(yè)知識(shí)。

            公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割,研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

            我們的激光組件工作在從UV(193 nm)到VIS到IR(20μm)的光譜范圍內(nèi),并在太赫茲(1-5 THz)范圍內(nèi)工作,可在科學(xué),工業(yè),醫(yī)學(xué)和美學(xué)領(lǐng)域的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用,軍事和航空航天市場(chǎng)。

            EKSMA光學(xué)拋光設(shè)備專門從事由BK7,UVFS,Infrasil,Suprasil,CaF2以及DKDP,KDP,LBO,BBO,ZnGeP2晶體制成的平面光學(xué)器件的加工和終拋光,而大功率激光應(yīng)用需要高質(zhì)量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設(shè)備,球面,軸錐和非球面鏡片CNC制造設(shè)備,BBO,DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設(shè)備,超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術(shù)部門和質(zhì)量控制設(shè)備。

            公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實(shí)驗(yàn)室的高質(zhì)量測(cè)試和認(rèn)證。

            該公司可根據(jù)客戶的圖紙和規(guī)格提供定制的光學(xué)和晶體組件。但是,我們還提供了廣泛的標(biāo)準(zhǔn)目錄產(chǎn)品,可以快速實(shí)現(xiàn)現(xiàn)成的交付。

            產(chǎn)品型號(hào)

            飛秒激光脈沖

            型號(hào)

            波長

            損壞閾值

            配置

            990-0072-343M

            343 nm

            >10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

            without controller & power supply

            990-0072-343M+CP

            343 nm

            >10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

            with controller & power supply

            990-0072-400M

            400 nm

            >10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

            without controller & power supply

            990-0072-400M+CP

            400 nm

            >10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

            with controller & power supply

            990-0072-515M

            515 nm

            >10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

            without controller & power supply

            990-0072-515M+CP

            515 nm

            >10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

            with controller & power supply

            990-0072-800M

            800 nm

            >10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

            without controller & power supply

            990-0072-800M+CP

            800 nm

            >10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

            with controller & power supply

            990-0072-800BM

            780-820 nm

            >10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

            without controller & power supply

            990-0072-800BM+CP

            780-820 nm

            >10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

            with controller & power supply

            990-0072-1030M

            1030 nm

            >10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

            without controller & power supply

            990-0072-1030M+CP

            1030 nm

            >10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

            with controller & power supply

            990-0072-1030BM

            1010-1050 nm

            >10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

            without controller & power supply

            990-0072-1030BM+CP

            1010-1050 nm

            >10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

            with controller & power supply

            大功率激光應(yīng)用

            型號(hào)

            波長

            損壞閾值

            配置

            990-0072-266HM

            266 nm

            >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

            without controller & power supply

            990-0072-266HM+CP

            266 nm

            >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

            with controller & power supply

            990-0072-343HM

            343 nm

            >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

            without controller & power supply

            990-0072-343HM+CP

            343 nm

            >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

            with controller & power supply

            990-0072-400HM

            400 nm

            >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

            without controller & power supply

            990-0072-400HM+CP

            400 nm

            >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

            with controller & power supply

            990-0072-515HM

            515 nm

            >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

            without controller & power supply

            990-0072-515HM+CP

            515 nm

            >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

            with controller & power supply

            990-0072-800HM

            800 nm

            >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

            without controller & power supply

            990-0072-800HM+CP

            800 nm

            >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

            with controller & power supply

            990-0072-800HBM

            780-820 nm

            >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

            without controller & power supply

            990-0072-800HBM+CP

            780-820 nm

            >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

            with controller & power supply

            990-0072-1030HM

            1030 nm

            >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

            without controller & power supply

            990-0072-1030HM+CP

            1030 nm

            >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

            with controller & power supply

            990-0072-1030HBM

            1010-1050 nm

            >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

            without controller & power supply

            990-0072-1030HBM+CP

            1010-1050 nm

            >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

            with controller & power supply


            旋轉(zhuǎn)分辨率:全步模式

            在1/8步進(jìn)模式下


            0.6 arcmin
            4.5 arcsec

            較高轉(zhuǎn)速

            50 deg/s

            適用于Nd:YAG激光應(yīng)用

            孔徑

            22 mm

            損害閾值

            >5 J/cm2
            pulsed at 1064 nm, typical

            偏振對(duì)比

            >1:200

            飛秒應(yīng)用

            孔徑

            22 mm

            損害閾值

            大功率激光應(yīng)用:

            > 10 mJ / cm2,在800 nm處有50 fs脈沖,典型值

            > 100 mJ / cm2,在800 nm處有50 fs脈沖,典型值

            時(shí)間色散

            對(duì)于100 fs Ti:藍(lán)寶石激光脈沖,t<4 fs

            偏振對(duì)比

            >1:200

            推薦設(shè)置

            控制器

            980-1045

            電源

            PS12-2.5-4

            上述控制器和電源已包含在衰減器套件中,其代碼結(jié)尾為“ + CP"。

            EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué),工業(yè),醫(yī)學(xué),美學(xué),軍事和航空航天市場(chǎng)的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
            EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,光機(jī)械,帶驅(qū)動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商,它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
            EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項(xiàng)業(yè)務(wù),其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長期專業(yè)知識(shí)。

            公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割,研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

            我們的激光組件工作在從UV(193 nm)到VIS到IR(20μm)的光譜范圍內(nèi),并在太赫茲(1-5 THz)范圍內(nèi)工作,可在科學(xué),工業(yè),醫(yī)學(xué)和美學(xué)領(lǐng)域的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用,軍事和航空航天市場(chǎng)。

            EKSMA光學(xué)拋光設(shè)備專門從事由BK7,UVFS,Infrasil,Suprasil,CaF2以及DKDP,KDP,LBO,BBO,ZnGeP2晶體制成的平面光學(xué)器件的加工和終拋光,而大功率激光應(yīng)用需要高質(zhì)量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設(shè)備,球面,軸錐和非球面鏡片CNC制造設(shè)備,BBO,DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設(shè)備,超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術(shù)部門和質(zhì)量控制設(shè)備。

            公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實(shí)驗(yàn)室的高質(zhì)量測(cè)試和認(rèn)證。

            該公司可根據(jù)客戶的圖紙和規(guī)格提供定制的光學(xué)和晶體組件。但是,我們還提供了廣泛的標(biāo)準(zhǔn)目錄產(chǎn)品,可以快速實(shí)現(xiàn)現(xiàn)成的交付。


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